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派瑞林气相沉积(CVD)工艺如何进行的?| 深圳方寸达

发布人:深圳方寸达科技有限公司

发布日期:2026/4/9 21:04:05

一、什么是派瑞林CVD工艺

派瑞林CVD(Parylene CVD,Chemical Vapor Deposition)是一种在真空环境下进行的高精度薄膜沉积技术,广泛应用于电子、医疗器械、传感器及高端精密设备领域。

该工艺通过气相反应,在材料表面沉积形成一层均匀、致密且无针孔的超薄聚合物薄膜,用于实现绝缘、防潮、防腐及长期可靠性保护。

与传统喷涂或浸涂方式不同,派瑞林CVD属于气相沉积工艺,能够在复杂结构表面实现真正意义上的“共形涂覆”。

 

派瑞林气相沉积(CVD)工艺原理

1.升华: 固态派瑞林原料在蒸发腔内吸热升华;

2.裂解: 升华后的气体进入裂解腔,在高温下形成活性单体;

3.沉积: 裂解后的活性单体被送入室温的真空沉积罐,在工件表面沉积聚合,形成一层致密的派瑞林防护涂层。

派瑞林气相沉积(CVD)工艺.png



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