电子级5-甲基苯并三氮唑 新品

中文名称 : 5-甲基苯并三氮唑（本款电子化学品可以按您的需求定制金属杂质指标，我们接受定制）

中文同义词 : 间甲苯基亚叠氮化氢;间亚叠氮基甲苯;甲基苯并三氮唑;5-甲基苯并三氮唑;5-甲基苯并三唑;5-甲基苯三醇;5-甲基苯三唑;5-甲基-1H-苯三唑,98+%

CAS号 : 136-85-6

分子式 : C7H7N3

分子量 : 133.15

EINECS号 : 205-265-8

熔点 : 80-82°C(lit.)

沸点 : 210-212°C12mmHg(lit.)

密度 : 1.1873(roughestimate)

形态 : 结晶粉末

颜色 : 奶油色至米色

5-甲基苯并三氮唑（5-Methyl-1H-benzotriazole）是一种高性能含氮杂环有机化合物，纯度高、金属杂质含量可低至ppb级（支持专属金杂定制）。其在铜及铜合金表面能形成致密的化学吸附膜，提供优异的缓蚀保护，同时具备良好的热稳定性和化学惰性。作为功能添加剂，本品在光刻胶体系中可有效抑制金属离子迁移，防止图形褪色，保障微影工艺的成像精度。

应用领域范围：

半导体电子材料

铜及铜合金缓蚀剂：用于化学机械抛光（CMP）后清洗、铜互连制程及封装环节，防止金属腐蚀与表面氧化。

光刻胶防褪色剂：添加到光刻胶配方中，抑制铜离子对光敏化合物的影响，延长掩模图形保留时间，提升显影对比度。

工业化学品

工业循环水处理：作为缓蚀组分，减少铜质管路及换热设备的腐蚀结垢，延长系统运行周期。

防锈油添加剂：与基础油复配后，增强对铜及铜合金部件的抗盐雾、抗湿热性能。

高级润滑油系统：用于涡轮机油、液压油等高端润滑体系，抑制铜质轴承及零部件的氧化腐蚀，维持油品清洁度。